ファインシリーズ洗浄ユニット

750kHzを使用したバッチ式洗浄ユニットです。

特殊型振動素子により効率よく音波を伝搬させ ワークにダメージを与えずにサブミクロンのパーティクルを除去。

シリコンウェハー、フォトマスク、磁気ディスクの洗浄に最適です。

ノズル先端より400kHz1.5 MHzまたは3.0MHzの音波をのせた純水を噴射し洗浄します。

毎分0.8〜1.5リットルの流量で洗浄。空中で洗浄するため再汚染がなく、サブミクロンのパーティクルが除去できます。

シリコンウェハー、フォトマスク、液晶ガラス、磁気ディスク等の洗浄、CMP後の洗浄、枚葉式洗浄に最適です。

ノズル材質　樹脂/石英、薬液対応、高出力100Wのファインジェットもご用意しております。

2mm幅のノズルスリットより1.5MHzの音波をのせた超純水を噴射し洗浄します。

洗浄エリアは250〜2,210mmまでワークに合ったサイズを選択可能。

バータイプのため高スループットでサブミクロンのパーティクルが洗浄できます。

有機ELやTFT/CF等の大型ガラス基板に最適。

枚葉式装置にも取付可能です。